国产光刻机突破：现象背后引全球关注

文/王新喜

国产光刻机官宣已经有一段时间了，国内外网友都沸腾了，但我们却注意到一个情况是，美国荷兰却沉默了。

今年9月9日，工信部公布了我国重大技术装备推广目录，氟化氩光刻机赫然在目，这一成果表明了我国光刻机整机生产实现了从0到1的重大突破，且已经大面积商用推广，意义非常重大！

国外网友沸腾了。在油管上， 瑞士网友表示，中国已经迎头赶上，有些人在1~2年内，ASML就后悔得要命了。

印度网友说，干得好，中国，这对全世界都有好处，对科学有益，有利于发展。“中国总是会在最后获胜，无论一开始有多困难，请记住，中国是发明追逐者。”

韩国网友认为这难以让人接受，已经封锁这么多年了，为什么他们还是能制造出来。

美国网友清醒过来了，表示：“人们嘲笑中国汽车、太空计划，嘲笑造船公司，他们现在哭了，你可以嘲笑中国芯科技，但这只是时间问题。

泰国网友说：“最后美国才发现他们一直封锁，中国一直突破，小丑成了美国。”

新西兰网友表示，如果认真研究中国的发展历史，中国人无论面对什么封锁，种子、科技，都被他们突破了。而古巴网友表示，中国的科技已经跟上了世界，并准备超越，封锁别人最后封锁了自己。

但尽管油管上国外网友一片沸腾，但美国荷兰却异常沉默，荷兰ASML公司也没有任何高管出来评论这件事情，这与去年华为Mate60横空出世的时候，美荷的担忧与慌乱表现截然不同。

为什么？

国外网友沸腾，美荷却沉默了

首先，国产光刻机技术突破或在美荷的预期之内，从这次“氟化氩光刻机”的参数来看，300 mm晶圆、193nm波长，其分辨率≤65nm，套刻≤8nm。这只是ArF的DUV光刻机，用来加工12寸晶圆，按套刻精度与量产工艺 1:3 的关系，这个光刻机大概可以量产 28nm 工艺的芯片， 这说明，这是一款相对初级的DUV光刻机，没法用来加工7nm先进芯片。

因此，工信部官宣的这款DUV光刻机，并没有触及ASML的核心利益。ASML的核心利益在7nm以下。在去年，搭载麒麟芯片的Mate60系列的横空出世，之所以引发美媒的一系列解读与担忧，是因为彼时国外针对华为Mate60拆机，发现麒麟9000s是一款非常先进的芯片。当时业内猜测这是一款7nm的芯片。

因此，去年华为Mate60开售第四天，也是荷兰此前宣布实施半导体出口管制正式生效的一天（9月1日），ASML快速回应，已向荷兰政府提出光刻系统出口许可证申请，表示可以继续向中国出售光刻机。

因此，只要7nm没有突破，荷兰ASML就不担心他们的护城河被突破。

其次，ASML在高端EUV上的护城河很深，28nm距离威胁到它的地位还很远。如今ASML已是名副其实的"光刻机之王"。2023年，ASML的营收达到270亿欧元，净利润高达71亿欧元。7nm以下高端芯片所需要的EUV光刻机，全世界只有ASML有，ASML全球市场份额接近100%。

从技术层面来看，ASML高端EUV光刻机非常难以颠覆与超越。首先EUV制造所需的体系小，功率高且稳定极紫外线光源，这点美国Cymer公司一直掌握着成熟技术，其他国家都是向其采购的。第二反射镜面，只有用高精度和高光滑度的镜片才能聚焦和校准光线，从而光线才能精确无误的照射在硅片上来画出微小图案。目前能够达到光刻机要求的镜片标准的厂商也在德国。

另外像是芯片上用的复合材料，光刻胶，高纯度化学品也多数都是日本专利。

我国氟化氩光刻机使用波长为193纳米的光源，而荷兰ASML的EUV光刻机使用波长为13.5纳米的光源，比DUV的光源要短14倍以上，其提供者就是美国Cymer公司，这是EUV光刻机的关键科技。另外，EUV光刻机镜头精度要比DUV高很多。据说把这个镜头总面积放大到德国一样大小，误差也不超过过1毫米。

而另一个方面是，美荷可能还在等华为Mate70的发布，华为的麒麟芯片进展与工艺制程或许能更好的看清国产光刻机到底走到哪一步了。美荷也清楚，我国历来都奉行应用一批，研发一批，储备一批的战略思想。官宣的，肯定不是最先进的。

而在9月10日，上海微电子更新的一条动态，公司已经申请了“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的发明专利，而且提交时间是两年前，现在才正式公布。

因此，今天公布的国产DUV光刻机或已经是1年前或者2年前的产品了，已经大量在用了，无需保密了。比较敏感的DUV先进光刻机等，外界也很难获得真正的进展信息。

美荷沉默背后，已经快没招了，制裁已经接近最大化

美荷沉默背后，我们也看到，今天美荷该用的手段都用了。2023年，英伟达禁止对华出口高端芯片，此前ASML最先进的浸润式DUV光刻机（即TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式DUV光刻机）已被限制。自9月7日起，ASML向中国出口TWINSCANNXT:1970i、1980i等DUV光刻机的禁令也生效了。此外美国继续施压，要求阿斯麦停止对华半导体设备运维服务。

现在几乎从高端到中低端，差不多该禁的都禁了。制裁已经接近最大化，几乎已经没招了，所以只能沉默，因为手里没牌可打了。

阿斯麦也不敢有大的动作，中国市场太重要了，如果把DUV市场都禁了，那么ASML的营收将遭受前所未有的重创。2024年第二季度，阿斯麦订单量增至56亿欧元，同比增长约 24%。该季度阿斯麦中国区收入约为23亿欧元，在总收入中占比49%。中国市场已经占ASML的半壁江山了。

美荷或也要担心未来芯片产业的趋势

28nm基本上是成熟和先进制程的分界点。这个目录就是官方已经正式发布了全国产的半导体工艺，设备和材料，在成熟制程的全国产设备已经可以开始全面替代了。

按照进展，ASML现在要考虑可能不是制裁，而是手头的低端DUV光刻机以后该卖给谁的问题了。

台湾省时事评论员介文汲此前指出：“如果将来氮化镓的第二代芯片出来的话，整个原材料在中国手里面，所以在现在这种情况下，市场技术掌握在中国，原材料掌握在中国，趋势对中国更有利。”

而更让荷兰担心的是，3~5年后就拼立体封装技术了，纳米数不再是最重要的了。长江存储董事长陈南翔此前在专访中也提到了一点，中国芯片产业目前还没有达到爆发式增长，但未来3-5年将看到这一进步。

他表示：“以前大家注重的都是晶圆制造技术，而在当下还需要最新的封装技术的加持。比如当前火热的AI芯片都需要最先进的晶圆制造技术和最先进的封装技术的。未来封装技术的重要性恐怕都要超过晶圆制造技术的重要性。”

而华为的三折叠屏，纳米数不是最小的，照样卖得最贵、最好，已经能说明问题了。

现在美荷制裁陷入僵局，荷兰如果加大禁售范围，中国就拿出了新的光刻机。类似在操作系统市场，华为备份的鸿蒙操作系统对安卓与iOS市场的侵蚀效应已经非常明显了。

那么接下来的走势就值得观察了，脱钩断链后，我可以从低端走向高端，你能否从高端走向更高端？如果我国进行量产，将有可能吞掉ASML在中低端光刻机的市场。中国在中低端DUV光刻机所占的市场，就占据了ASML一半的营收，这对ASML意味着什么，可能没有人比荷兰更清楚。这就是一场梭哈，就看荷兰是否能看清楚形势与代价了。

作者：王新喜 TMT资深评论人 本文未经许可谢绝转载