重磅!全新国产光刻机亮相,技术领先全球

发表时间: 2024-09-17 07:32

全新国产光刻机曝光,套刻≤8纳米,到底是个什么水平?

说实话,和国际领先水平还是有差距的,但先别急着丧气,因为这并不代表中国最先进的水平,如果把最近发生的事情都联系起来,你就发现这次更像是对美国近期加强芯片制裁手段的回应,真的是会让美国很破防的那种,更重要的这次公布的光刻机还会进一步提升我国汽车、家电等工业品的国际竞争力。那到底咋回事呢?

话说工业和信息化部9月9日印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024 年版)》通知:

在这个目录当中,有一个就是集成电路生产装备,格外引人注意。

其中包含了两款国产光刻机,一款是氟化氪光刻机,另一个是氟化氩光刻机,技术更加先进,是这次的重头戏。

氟化氩光刻机,就是传说中的DUV光刻机,根据分辨率65纳米,可得知是干式DUV,水平和阿斯麦“XT:1460K”相近。

大概和全球最先进的光刻机还差2代,一代是浸润式DUV,一代是极紫外式,也就是EUV。

其中浸润式DUV的典型代表就是阿斯麦“NXT:1980Di”,分辨率38纳米,通过多重曝光,可以生产7纳米制程芯片。

全球最先进的光刻机是阿斯麦的“EXE:5000”,采用13.5纳米极紫外光源,分辨率是8纳米,是面向3纳米制程研发的,当然这款现在还很少,就英特尔买了台,还处于是样机状态。

估计看到这里,很多人就会很失望。但其实我看到这个消息时,反倒是感慨咱妈手里的牌,可真不是一般的多。

众所周知,咱们在研发这种大国重器时,通常是服役一代、研制一代、预研一代。这次公布的光刻机,是可以大规模商用、量产的,但绝对不是咱妈手里最先进的技术。

你想啊,华为mate60系列芯片采用的是7纳米制程,肯定不是这次公布的光刻机制造的。

至于咱妈在现在到底啥水平?说实话,我是不知道。

不过,根据国家知识产权局的信息显示,2023年3月9日,上海微电子提交了一份知识产权申请,发明名称是:极紫外辐射发生装置及设备,公开时间是2024年9月10日。

也就是说,去年3月份,中国就已经有团队攻克了EUV光刻机的关键核心技术难题。当然,我们不得不承认的是,距离把这项关键技术运用到整机上,还需要些时间。要知道的是,当初美国制裁芯片产业时,国内外无数专家学者都认为,在20、30年内,中国都搞不出这项关键技术,结果这还不到5年,这个技术就被突破了。

以上还只是技术上的分析,而在供应链方面,情况又会完全不同。

一般来说,我们把制程小于28纳米的芯片称为:先进制程;

28纳米及以上的芯片称为:成熟制程。

成熟制程占全球半导体需求的80%,汽车、洗衣机、医疗设备等日常科技产品,用的都是成熟制程。

美国没有制裁成熟制程,只限制了先进制程,说白了也是为了让欧美企业不至于没钱赚,毕竟中国是最大的芯片市场。

所以,我们一致还能买得到制造成熟制程芯片的光刻机,阿斯麦等企业也还提供相关服务。

可让美国万万没想到的是,制裁没有中国放弃,反而激发了中国人的斗志。这些年中国一边研究先进制程,一边在成熟制程的领域嘎嘎乱杀,直接占据了主导地位。

2023年,中国成熟工艺产能中的全球份额已经达到了31%,而预计到2017年,可以达到39%。

这两年中国成熟制程芯片卖得有多好?

这么说吧,中国汽车出口增长得够快吧?但不如芯片出口增长多。

中国把成熟支撑芯片卖爆,抢了欧美企业的份额,结果就是光刻机不够用了,中国开始找荷兰和日本买能够制造成熟制程芯片的光刻机。

这让美国都破防了,于是美国胁迫荷兰扩大光刻机出口管制范围,说白了就是想限制中国制造成熟制程芯片的能力,进而从中国夺走这部分成熟制程芯片的全球市场份额。

而这次公布的氟化氩光刻机,以及其他许多芯片相关的技术,正是用于生产成熟制程芯片的,而且是国产自研的设备,根本不会被卡脖子。也就是说,美国这次制裁了个寂寞。只是苦了美国的盟友们,本来还可以卖卖光刻机的,现在没得卖了。

所以懂了么?以前美国制裁我们,我们没太多办法。而这些年过去了,美国出完招,我们可以立马反制。

#头条创作挑战赛##国产光刻机问世#