工信部宣布国产光刻机突破：国产技术走向前沿

国产光刻机现在是国家重点支持的项目了！

老美又双叒叕出手了！

这次瞄准的，是制造业的“心脏”——光刻机。

9月9日，工信部发布了“首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版)”，这份名单可以说相当重量级。

国产光刻机榜上有名，其中包括了氟化氪和氟化氩两种型号。

这可不是普通的“打酱油”，这意味着，国产光刻机，正式进入“国家队”了！

消息一出，整个半导体行业都沸腾了。

要知道，光刻机这玩意儿，可是芯片制造的核心设备，长期以来都被荷兰ASML一家独霸，咱们只能眼巴巴地看人家“卡脖子”。

多少年来，多少人咬牙切齿，就盼着这一天呢！

当年，ASML 的工程师可是瞧不起咱们，说就算把图纸都给你，你也造不出光刻机呢。

现在看来，真是啪啪打脸！

光刻机这玩意儿，可不是一蹴而就的，它可是经历了五代技术革新，每一代都代表着人类在纳米尺度上的又一次突破。

第一代G线光刻机，光源波长436nm，能造350nm以上的芯片，放到现在也就是“老古董”级别。

现在，用365纳米光源的第二代I线光刻机，主要用来生产350纳米芯片。不过，这台机器已经不太先进啦，毕竟现在的技术越来越进步了。

KrF光刻机让光刻技术真正上了一个台阶。

这个新技术厉害了！它用一种叫做氟化氪的材料，发出248nm波长的光线，就能制造比以前更小的芯片，性能提升一大截！

而第四代ArF光刻机，更是用上了波长193nm的氟化氩，能造65nm以上的芯片，再配上浸润式技术，光源经过折射，波长能缩短到134nm，甚至能造出7nm的芯片！

第五代EUV光刻机可厉害了，能生产比7纳米更先进的芯片呢！简直是高科技的代表！

台积电和三星这两家大厂，要生产最先进的 3 纳米芯片，都得用 ASML 公司的 EUV 光刻机。

我们新研发的KrF光刻机，用的是300毫米的晶圆，激光波长是248纳米，可以做到110纳米以下的精细刻蚀，而且套刻误差控制在25纳米以内。

你别看它指标“平平无奇”，但它代表着咱们在光刻机领域，已经站稳了脚跟。

更值得一提的是，咱们的ArF光刻机，照明波长193nm，分辨率≤65nm，套刻精度≤8nm，这已经和ASML的TWINSCANNXT：1460K差不多了！

别看它很先进，其实这台光刻机还用的是传统的技术，还没用上更先进的浸润式呢！

用浸润式技术，造出14nm的芯片根本不是问题！

虽然 14nm 芯片听起来很普通，但它可是芯片界的“大腕”，占了全球市场份额的 70% 呢！

从航天军工、汽车工业，到家用电器、智能家居，14nm芯片几乎无处不在。

咱们的ArF光刻机一旦量产，就能把国产芯片自给率提高到70%，彻底打破老美的封锁！

最重要的是，我们的光刻机完全是我们自己研发的！

为啥？

因为在光刻机领域，欧美对咱们是全面禁运的，连个螺丝钉都不卖！

这次能“官宣”，说明咱们已经掌握了全部核心技术，100%国产化，这可是其他国家想都不敢想的！

国产光刻机要发展起来，还有很长的路要走，需要不断攻克技术难题。

当然，咱们也要清醒地认识到，光刻机这玩意儿，绝对是人类科技的“天花板”级别，想完全追上ASML，还有很长的路要走。

想要知道光刻机有多厉害，就得看它两个重要的指标：分辨率和套刻精度。

芯片就像一块画布，光刻机就像一支画笔。分辨率越高，画笔越细，就能在画布上画出更精密的图案。 芯片的性能也就更强大，就像画得越精细的画，越显得精美。

光刻机就像一个超精密的雕刻师，套刻精度就是它手的稳准。精度越高，它在芯片上雕刻多次的时候，就能把电路图形对得越准，做出来的芯片质量也就越好，良品率也就更高啦。

咱们的ArF光刻机，分辨率虽然达到了65nm，但和ASML的34nm还有一定差距。

简单来说，ASML的技术让它在生产同类芯片时，能制造出更多合格产品，特别是在需要多次曝光的复杂芯片上，它的优势就更明显了。

其次，物镜系统是光刻机的“心脏”，它的好坏，直接决定了光刻机的分辨率和套刻精度。

ASML的物镜技术，全球领先，而咱们在这方面，还有很大差距。

再次，EUV光刻机是下一代光刻机的“终极目标”，它采用13.5nm的极紫外光源，能够制造7nm以下的芯片。

EUV光刻机对光源技术、物镜系统、双工作台，以及轴承、线缆等，都有着极高的要求，技术难度之大，可想而知。

光刻机可不是一件简单的“玩具”，它需要很多方面紧密配合才能造出来。从光源、透镜到精密机械、软件，每一个环节都至关重要。只有所有环节都齐心协力，才能造出顶尖的光刻机。

面对这些挑战，我们没有被吓倒，反而更有干劲了。

以前总有人说中国造不出光刻机，现在咱们自己研发出光刻机了，结果又有人说这会破坏全球产业链。这说明咱们进步得让一些人感到害怕，他们担心咱们会威胁到他们的地位。

中国的光刻机发展前景一片光明，凭借自主创新，未来可期！

说白了，光刻机这事儿，已经不是简单的商业竞争了，而是关乎国家战略安全的大事儿。

芯片就像现代社会的“石油”，谁拥有了芯片，谁就握住了未来发展的主动权。

这些年，老美动不动就挥舞制裁大棒，咱们可是吃够了苦头。

要想彻底摆脱“卡脖子”的困境，就必须把光刻机，以及整个芯片产业链，牢牢掌握在自己手里！

路，都是一步一步走出来的。

首先，当然是要加大研发投入，集中力量办大事，攻克 EUV 光刻机等核心技术，争取早日实现 7nm 以下芯片的国产化。

其次，要完善光刻机产业链建设。

光刻机这东西可不是一个公司就能玩得转的，这玩意儿需要一大堆公司一起干活，才能造出来。

咱们要重点突破光源、物镜、双工作台等关键零部件的瓶颈，提高国产化率，才能彻底摆脱对海外的依赖。

还有，要加强国际合作。

想要在光刻机领域有所作为，闭门造车肯定不行，必须积极跟国际接轨。学习先进技术，引进优秀人才，融入全球产业链，才能更快提升实力。

这条路肯定不好走，但我们相信自己，也足够强大，一定能走出一条属于自己的创新之路！

还记得当初，咱们搞“两弹一星”的时候，也是一穷二白，被西方国家封锁得死死的。

真厉害，咱们的科学家们，就靠着算盘和计算尺，硬是创造了奇迹！

现在，咱们的综合国力早已今非昔比，在光刻机领域，我们已经迈出了坚实的一步。

只要我们埋头苦干，不断创新，就能打破技术壁垒，从追赶者变成领跑者，掌握芯片制造的主导权！

相信大家跟我一样，都对国产光刻机的未来充满期待吧？

这场科技盛宴，哪些企业会是主角呢？

首先，要提的当然是“国家队”——**上海微电子**。

作为国内光刻机龙头企业，上海微电子产品涵盖了 ArF、KrF 和 i-line 等多个领域，已经具备了 90nm 及以下芯片的制造能力，占据了国内市场 80% 以上的份额。

在光刻机核心零部件方面，也有不少国内企业崭露头角。

比如，**同飞股份**的液体恒温设备，**波长光电**的大口径光学镜头和平行光源系统，**茂莱光学**的光刻机曝光物镜超精密光学元件加工技术，都在各自领域取得了突破。

除了我们之前提到的，**科益虹源**和**福晶科技**在光源系统方面也有很强的实力，不容小觑。

科益虹源专攻高科技的光源系统，他们研发的 248nm、193nm 准分子激光器在很多领域都有应用。而福晶科技则专注于一种叫 KBBF 的特殊晶体，这种晶体是科益虹源光源系统的重要组成部分。

当然，光刻机产业链极其复杂，除了上述企业，还有许多企业在各自领域默默耕耘，为国产光刻机的崛起贡献力量。

未来，随着国产光刻机的不断进步，相信会有更多优秀企业涌现出来，共同撑起中国芯片产业的脊梁！

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