荷兰升级光刻机禁令引发全球关注

2024年1月，荷兰第一次出台了光刻机禁止令，此后，荷兰政府逐步扩大了对先进半导体制造设备的出口管制措施。

而近日，荷兰政府再次宣布升级光刻机出口管制，这一决定犹如一颗重磅炸弹，在国际半导体领域引发强烈震荡。

作为全球光刻机领域的绝对霸主，荷兰阿斯麦（ASML）公司一直是这场博弈的核心，面对政府的新规，这个科技巨头却发出了出人意料的感叹：“我们太自以为是了。”

芯片江湖

在半导体的世界里，光刻机堪称“点石成金”的神器，它就像一台超级精密的照相机，将电路图案精确地投影到硅晶圆上，为芯片制造奠定基础。

这种高度复杂的设备，不仅决定了芯片的性能和集成度，更是半导体产业链中最为关键的一环。

在这个技术含量极高的领域，荷兰阿斯麦（ASML）公司独占鳌头，作为全球唯一能够生产极紫外光（EUV）光刻机的企业，ASML牢牢把控着半导体制造的“咽喉”。

最先进的光刻机，能够制造7纳米以下的芯片，是当今世界最尖端的科技结晶。

在高端光刻机市场，ASML占据了近100%的份额，即便在整个光刻机市场，ASML也坐拥超过80%的市场份额，这种近乎绝对的垄断地位，使得ASML成为全球半导体产业不可或缺的一环。

而ASML的“武林地位”并非凭空而来，公司在研发上的持续投入和技术创新，是保持领先地位的关键。

仅2022年，ASML就在研发上投入了27亿欧元，占其年收入的13.6%，这种对技术的执着追求，使得ASML在光刻机领域始终保持着技术优势。

对于ASML而言，中国市场的重要性不言而喻，2022年，中国大陆成为ASML的第一大销售市场，占比高达49%，约23.33亿欧元。

这一数字充分说明了中国半导体产业对先进光刻机的巨大需求，也反映了中国市场对ASML业绩的关键影响。

随着全球科技竞争日益激烈，ASML的“武林地位”也面临着前所未有的挑战，美国对中国半导体产业的持续打压，以及对荷兰施加的压力，使得ASML不得不做出一些改变。

在这场错综复杂的“芯片江湖”中，ASML的每一步棋都牵动全球半导体产业的神经，面对日益严格的出口管制，ASML将如何维持其市场地位？

美国的“围剿”

美国对华科技封锁的历程可谓步步为营，逐步升级，从最初的针对个别中国企业的制裁，到如今全方位的技术封锁，美国的战略意图日益明显，那就是遏制中国在高科技领域的快速发展。

2019年，美国将华为列入实体清单，限制其获取美国技术，2020年，美国进一步收紧对华为的限制，切断其获取先进芯片的渠道。

2022年，美国又出台了更为严格的芯片出口管制措施，不仅限制向中国出口先进芯片，还禁止美国公民参与中国芯片企业的发展。

这种不断升级的封锁措施，反映了美国维护其科技霸权的决心。

在美国看来，中国在人工智能、量子计算等前沿领域的快速进步，已经对其全球科技领导地位构成了威胁。

因此，遏制中国的科技发展，成为美国维护霸权的关键战略。

而美国深知单打独斗难以实现全面封锁，为此，美国积极拉拢盟友，试图构建一个“芯片联盟”。

通过外交施压和利益诱导，美国成功说服荷兰和日本加入对华半导体技术限制的行列，这种做法不仅扩大了封锁的范围，也在一定程度上限制了中国寻求替代方案的空间。

美国的这种做法，折射出其在科技领域的焦虑与矛盾，美国试图通过技术封锁来延缓中国的发展速度。

美国的做法也引发了不少争议，这种封锁措施可能会适得其反，反而刺激中国加速自主创新。

也有不少国家担心，如果这种趋势持续下去，可能会导致全球科技产业链的分裂，形成“科技铁幕”，最终损害全球经济发展。

“左右为难”的荷兰

荷兰这个欧洲小国，因为拥有全球领先的光刻机技术而被推到了大国博弈的风口浪尖。

作为ASML公司的母国，荷兰在美中科技争端中扮演着关键角色，其每一个决策都牵动全球半导体产业的神经。

2019年，荷兰在美国要求下暂停向中国出口EUV光刻机，但同时，荷兰仍允许ASML向中国出口较低端的DUV光刻机。

但是随着美国对华科技封锁的升级，荷兰的平衡策略也越来越难以维持。

2023年1月，荷兰同意加入美国主导的对华半导体出口管制联盟，3月，荷兰政府正式宣布新的出口管制措施，限制部分先进芯片制造设备的出口，标志着荷兰在美中博弈中进一步向美国靠拢。

对ASML而言，失去中国市场意味着巨大的经济损失，同时，这也可能刺激中国加速发展本土光刻机技术，最终威胁ASML的全球领先地位。

中国的“突围”

面对美国主导的技术封锁，中国选择迎难而上，将危机转化为加速自主创新的动力。

近年来，中国在研发支出上的增长速度远超全球平均水平，2022年，中国研发经费投入达到3.09万亿元，同比增长10.4%，占GDP的比重为2.55%。

这种大规模的投入，为中国在关键领域实现技术突破奠定了基础。

面对无法获得最先进光刻机的困境，中国选择了“多管齐下”的应对方式，一方面，加大对现有光刻机的利用效率，通过创新工艺和设计来弥补技术差距。

另一方面，全力推进国产光刻机的研发，力争在这一关键领域实现突破。

中国的努力已经开始显现成效，例如，中芯国际在28nm及以上制程已经实现大规模量产，并在14nm制程上取得突破。

虽然与全球最先进的3nm制程还有差距，但这种进步已经足以满足大部分国内市场需求。

除了芯片制造，中国在芯片设计领域也取得了重要进展，以华为海思为代表的中国芯片设计企业，在5G基带芯片、AI芯片等领域已经跻身全球前列。

这种设计能力的提升，不仅降低了对进口芯片的依赖，也为未来的技术突破奠定了基础。

通过政策引导和市场机制，中国正在加速构建从材料、设备到设计、制造的完整半导体产业链，这种全产业链布局，有助于增强中国半导体产业的整体抗风险能力。

在强调自主创新的同时，中国仍然保持开放合作的态度，通过国际合作和人才引进，中国持续吸收全球先进技术和经验，加速自身的技术进步。

合作还是对抗？

在当前国际形势下，全球科技生态正面临着前所未有的挑战，美国主导的技术封锁和中国的自主创新努力，正在重塑全球科技格局。

长期以来，全球科技创新一直依赖于开放合作的环境，跨国公司、研究机构和人才的自由流动，推动了科技的快速发展。

许多专家认为，科技创新本质上是一个开放、协作的过程，封闭和对抗不仅会阻碍科技进步，还可能导致资源的重复投入和浪费。

中国在面对技术封锁时加速自主创新的努力，某种程度上印证了这一点。

欧盟提出“开放战略自主”的想法，试图在美中之间保持独立性的同时，推动本土科技产业的发展。

而日本、韩国等国家虽然在安全问题上倾向于美国，但在经济利益方面仍希望与中国保持合作。

尽管地缘政治因素影响日益加深，但全球科技界仍在努力维护合作。在气候变化、公共卫生等全人类共同面临的挑战领域，国际合作仍在持续。

即使在当前复杂的国际环境下，合作仍是解决全球性问题的必然选择。

参考资料：