CMOS和电源IC需求增长，推动后端光刻设备进步

IT之家 8 月 8 日消息 根据外媒 TheElec 消息，根据研究机构 Yole Development 报告近期由于 CMOS 传感器和电源管理 IC 的需求增加，制造这类芯片的光刻设备产业将增长。

目前随着尖端芯片制造工艺逐渐达到瓶颈，缩小制程变得越来越困难。芯片制造商于是转向别的半导体芯片类型，在后端工艺中使用光刻设备进行加工，并可以运用新的封装工艺来实现。

▲ 佳能的一款光刻机，图片来自官方

研究机构表示，从 2020 年到 2026 年，“超越摩尔定律”（More than Moor，MtM）应用的光刻设备市场预计会平均每年增长 9%，预计到 2026 年市场价值将达到 17 亿美元。

More than Moore 的概念是，芯片制造商在后端使用不同的工艺来提高芯片性能，而不是以来此前的办法，致力于缩短栅极长度、提高晶体管密度。Yole Development 表示，CMOS 芯片光刻设备，和电源管理 IC 光刻设备的市场，将在未来保持每年 7% 的增长率。

到 2026 年，CMOS 光刻机的市场规模将达到 5.5 亿美元，电源管理 IC 的市场份额将达到 4.4 亿美元。目前，“fan-out wafer level”工艺，以及片内封装技术，正在得到越来越广泛的应用。

IT之家了解到，如今的相机 CMOS 芯片除了传感器部分，还在片上封装有初级 A/D 转换芯片以及信号处理芯片等，实现了更高的集成度，同时避免信号传输带来的干扰和损失。目前，佳能是这类光刻机的主要制造商，拥有 34% 的市场份额，第二名是 ASML，市场份额 21%。